好消息,中国半导体行业有望加速发展,可以说这是国产光刻机一个重大突破

日期:2020-06-07 22:09:39 来源:互联网 编辑:小优 阅读人数:226

继华为被列入美国“黑名单”之后,今年美国再次加大制裁力度,意欲切断华为芯片的全球供应链,对华为进行全方位打击。

好消息,中国半导体行业有望加速发展,可以说这是国产光刻机一个重大突破(图1)

在芯片封装环节,国内有长电科技、华天科技、通富微电,完全可以满足国内半导体封装需求。但是,目前最大的难题在于芯片制造环节,全球最大的芯片代工厂是台积电,拥有全球56%的市场份额,三星电子也甘拜下风。

但是,美国5月份发布的制裁措施将进一步限制台积电对华为芯片的代工。所以,我们只能将希望寄托在中芯国际的身上,中芯国际是目前国内最先进的芯片代工厂,但是只能实现14nm芯片的量产,与台积电的芯片代工实力相比还有很大差距。

好消息,中国半导体行业有望加速发展,可以说这是国产光刻机一个重大突破(图2)

中国半导体传来“捷报”中芯国际在人才和资金方面取得新进展。据媒体报道称,前格芯中国区白农日前已经加盟中芯国际,直接向联合CEO梁孟松报告。白农此前任职于三星、高通等半导体企业,拥有20多年的行业经验。

事实上,中芯国际目前最顶尖的人才是CEO梁孟松,梁孟松于2017年加盟中芯国际,此前任职于台积电和三星,三星芯片代工之所以能够迅速追上台积电,背后就是梁孟松的功劳。所以,梁孟松是全球半导体行业不可多得的顶尖人才。

好消息,中国半导体行业有望加速发展,可以说这是国产光刻机一个重大突破(图3)

自从梁孟松加盟中芯国际以来,中芯国际的14nm芯片进展迅速。中芯国际曾在2018年向ASML公司订购一台EUV光刻机,但是由于各方面原因,迟迟未到货,这也导致中芯国际一直未能突破7nm工艺技术。

目前,在梁孟松的带领下,中芯国际已经有了“替代方案”梁孟松在投资人会议上表示,N+1技术正在取得进展,比较接近台积电的7nm工艺,好是中芯国际目前的N+1技术并不需要使用荷兰的EUV光刻机。

好消息,中国半导体行业有望加速发展,可以说这是国产光刻机一个重大突破(图4)

但是,从长远来看,我们必须拥有自己的国产光刻机。目前,国内唯一的光刻机厂商是上海微电子,上海微电子也是全球为数不多的可以制造光刻机的厂商。上海微电子成立于2002年,主营业务是光刻机设备,主要生产SSX600和SSX500两个系列光刻机。

一般来说,光刻机主要分为IC前道光刻机、封装光刻机、面板光刻机和LED光刻机。通常我们所说的光刻机指的是前道光刻机,也是制造难度最高的光刻机。目前上海微电子可以制造90nm制程光刻机,而荷兰ASML的EUV光刻机可以达到5nm,差距依然很大。

好消息,中国半导体行业有望加速发展,可以说这是国产光刻机一个重大突破(图5)

好是,国产光刻机取得重大突破!近日有业内称,上海微电子装备(集团)股份有限公司披露,将在2021-2022年交付第一台28nm工艺的国产沉浸式光刻机,可以说这是国产光刻机一个重大突破,从90nm到28nm上海微电子用了数十年时间,非常不容易。

虽然28nm工艺和荷兰ASML公司的5nm工艺还有差距,但是我们正在努力缩小差距。目前,中国拥有全球最大的半导体市场,国家集成电路基金也在大力扶持国内半导体企业,在市场、资金、技术和人才的加持下,中国半导体行业有望加速发展,迎来爆发期。

本文相关词条概念解析:

光刻机

光刻机/紫外曝光机(MaskAligner)又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻,所以叫MaskAlignmentSystem.一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。Photolithography(光刻)意思是用光来制作一个图形(工艺);在硅片表面匀胶,然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程。

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